可檢測基體

鐵(tie)基(ji)(ji)(ji)、銅基(ji)(ji)(ji)、鋁(lv)基(ji)(ji)(ji)、鎳基(ji)(ji)(ji)、鈷基(ji)(ji)(ji)、鎂基(ji)(ji)(ji)、鈦(tai)基(ji)(ji)(ji)、鋅基(ji)(ji)(ji)、鉛(qian)基(ji)(ji)(ji)、錫基(ji)(ji)(ji)、銀基(ji)(ji)(ji)。

光學系統

帕(pa)型-龍格 羅(luo)蘭圓全譜真空型光(guang)學系統

波長范圍

140~680nm

光柵焦距

401mm

探 測 器

高(gao)性能CMOS陣(zhen)列/CCD陣(zhen)列

光源類型

數(shu)字光源，高(gao)能(neng)預燃(ran)技(ji)術（HEPS）

放電頻率

100-1000Hz

放電電流

大500A

工作電源

AC220V 50/60Hz 1200W

儀器尺寸

780*565*360mm

儀器重量

約80kg

檢測時間

依據(ju)樣(yang)品類型而定，一般20S左(zuo)右(you)

電極類型

鎢材噴射電極

分析間隙

4mm

其他功能

真(zhen)空，溫度，軟件自動(dong)控(kong) 壓力，通(tong)訊監測(ce)

采用高(gao)精度的CMOS元(yuan)件(jian)可準確測定(ding)非金屬元(yuan)素如C、P、S、As、B、N以及(ji)各種金屬元(yuan)素含量；

測定(ding)結(jie)果準確，重(zhong)復性及長(chang)期(qi)穩(wen)定(ding)性好(hao)。

自動光路校準

自動光(guang)路(lu)校準，光(guang)學系(xi)統自動進行譜(pu)線(xian)掃(sao)(sao)描，確保接收的(de)正確性(xing)，免除繁(fan)瑣的(de)波峰掃(sao)(sao)描工作；

儀器自動識別特定(ding)譜線與原存儲線進(jin)行對比(bi)，確定(ding)漂(piao)移位置，找(zhao)出分析線當前的像素位置進(jin)行測(ce)定(ding)。

插拔式透鏡設計

真(zhen)空(kong)光學系統(tong)采用*的入射窗與真(zhen)空(kong)隔離，可在(zai)真(zhen)空(kong)系統(tong)工作狀態下進行(xing)操作，光學透鏡采用插拔式(shi)透鏡結構，日常清洗維護方(fang)便快捷。

真空室一體化

*的光室結構設計，使真空(kong)室容積更小，抽真空(kong)時間僅普通光譜儀的1/2；

真(zhen)空室一(yi)體化設計及高精密的(de)加(jia)工，使真(zhen)空保持的(de)更加(jia)持久。

真空防返油技術

多級(ji)隔離的真(zhen)空(kong)(kong)防返油技(ji)術，采用真(zhen)空(kong)(kong)壓差閥門保證真(zhen)空(kong)(kong)泵(beng)不工(gong)作時真(zhen)空(kong)(kong)光室與真(zhen)空(kong)(kong)*隔離

中間增加(jia)了真空(kong)濾(lv)油裝置，確(que)保(bao)真空(kong)泵中油不進入真空(kong)室，保(bao)障CMOS檢(jian)測器及光學元(yuan)件(jian)在可靠環境中工作。

開放式激發臺

開放(fang)式激發臺機靈活(huo)的樣品夾設計(ji)，以滿足客(ke)戶現場的各種形(xing)狀(zhuang)大小的樣品分析；

配合使用(yong)小樣品夾具，線材(cai)低分析(xi)可達(da)到3mm。

噴射電極技術

采用*的噴射(she)電極技(ji)術(shu)，使(shi)用鎢(wu)材(cai)料(liao)電極，在(zai)激發(fa)狀態下，電極周圍會(hui)形(xing)成氬氣(qi)噴射(she)氣(qi)流，這樣在(zai)激發(fa)過程(cheng)中(zhong)激發(fa)點周圍不會(hui)與外界空(kong)氣(qi)接觸，提高激發(fa)精度

配上*氬(ya)(ya)氣(qi)氣(qi)路設計，大大降(jiang)(jiang)低了(le)氬(ya)(ya)氣(qi)使用(yong)量，也降(jiang)(jiang)低客戶使用(yong)成(cheng)本。

集成氣路模塊

氣路系統(tong)采(cai)用氣路模塊免維護設(she)計，替代電(dian)磁閥和流量(liang)計，電(dian)極自吹掃功能，為激(ji)發(fa)創(chuang)造了(le)良好的環境。

數字化激發光源

數字激發光(guang)源，采用等離(li)子激發光(guang)源，超穩定能量釋放在氬氣環境中(zhong)激發樣(yang)品；

全(quan)數(shu)字激發脈沖，確保激發樣品等離子體超高分(fen)辨率和(he)高穩定率輸出；

可任(ren)意調節光源的各項參數，滿足各種不同材料的激(ji)發要求。

高速數據采集

儀(yi)器采用高(gao)性能(neng)CMOS檢測(ce)(ce)元件(jian)，具有每(mei)塊CMOS單獨超(chao)高(gao)速數據(ju)采集分析功能(neng)，并能(neng)自動實(shi)時監測(ce)(ce)控(kong)制(zhi)光(guang)室溫度、真空度、氬氣壓力、光(guang)源、激(ji)發室等(deng)模(mo)塊的運行狀態。

以太數據傳輸

計算(suan)機(ji)(ji)和光(guang)譜儀之(zhi)間使用以太網卡和TCP/IP協議，避免電磁干擾，光(guang)纖老化的弊(bi)端，同時計算(suan)機(ji)(ji)和打印(yin)機(ji)(ji)*外(wai)置(zhi)，方便升級和更(geng)換；

可以遠(yuan)程監(jian)控(kong)儀器狀(zhuang)態，多通路操(cao)控(kong)系統控(kong)制(zhi)和監(jian)控(kong)所有的儀器參(can)數(shu)。

預制工作曲線

備有不同(tong)材質和牌號的標樣(yang)庫，儀器出廠時(shi)工廠預制(zhi)工作(zuo)曲線，方便安裝(zhuang)調試(shi)和及時(shi)投(tou)入生(sheng)產(chan)；

根(gen)據(ju)元素(su)和材質對(dui)應(ying)的(de)分析(xi)(xi)程(cheng)序而稍有差(cha)異，激發和測試參數(shu)儀器(qi)出廠時已(yi)經(jing)調節好，根(gen)據(ju)分析(xi)(xi)程(cheng)序可自(zi)動選擇合適(shi)的(de)測試條件(jian)；

技術(shu)規(gui)格中附有(you)分析范圍（并可根據(ju)用(yong)戶提供標樣(yang)免(mian)費繪制(zhi)或延長工作曲線）。

分析速度快

分析速度快，僅需20秒即可完成一次分析；

針對(dui)不同的(de)分(fen)析材料，通過設置(zhi)預燃時(shi)(shi)間及測量時(shi)(shi)間，使儀器用短時(shi)(shi)間達到(dao)良好的(de)分(fen)析效果。

多基體分析

光路設計采(cai)用羅蘭(lan)圓結構(gou)，檢測器上(shang)下交替排列(lie)，保證接收全部的譜線(xian)，不增加(jia)硬件設施，即(ji)可(ke)實現多基體分(fen)析；

便于根(gen)據生產(chan)的需要(yao)增加基體(ti)及材(cai)料種類和分析元素（無硬件成本）。

軟件中英文系統

儀器操作軟件*兼容(rong)于Windows7/8/10系(xi)統；

軟(ruan)件操作簡單，即使沒有任(ren)何光譜(pu)儀知(zhi)識及操作經驗的人員(yuan)只需(xu)經過簡單的知(zhi)識培訓(xun)即可上手使用。